蝕刻液的問題,透過圖書和論文來找解法和答案更準確安心。 我們找到下列問答集和整理懶人包

蝕刻液的問題,我們搜遍了碩博士論文和台灣出版的書籍,推薦林定皓,藍國興寫的 電路板濕製程技術與應用 和林定皓的 電路板製造與應用問題改善指南都 可以從中找到所需的評價。

另外網站BGA快速蝕刻製程蝕刻液產品系列- 奇奕國際也說明:POMAT 系列蝕刻劑是專為BGA產品中的快速蝕刻製程所特別設計的銅面蝕刻液,成份中內含有. 潤濕劑及促進劑等特殊添加劑,進而達到50um以下線路的蝕刻品質要求◦.

這兩本書分別來自全華圖書 和全華圖書所出版 。

國立虎尾科技大學 電子工程系碩士班 陳文瑞所指導 蕭宇良的 應用於酸性稀釋溶液導電度量測的IDT感測系統 (2021),提出蝕刻液關鍵因素是什麼,來自於指叉電極、導電度、微控制器。

而第二篇論文國立虎尾科技大學 光電工程系光電與材料科技碩士班 鄭錦隆所指導 廖偉程的 應用於串接太陽能電池之氧化銦錫與負型矽介面特性提升研究 (2021),提出因為有 氧化銦錫、負型矽、串聯電阻、蕭基能障、串接 太陽能電池的重點而找出了 蝕刻液的解答。

最後網站產品介紹| 蝕刻液 - 星辰精密則補充:吸嘴、點膠針、沾膠針、頂針、Air tension、Kit、EFO、蝕刻液為星辰精密位於半導體業界服務之主力產品。「星辰精密」成立於2015年,總公司座落於臺灣桃園市, ...

接下來讓我們看這些論文和書籍都說些什麼吧:

除了蝕刻液,大家也想知道這些:

電路板濕製程技術與應用

為了解決蝕刻液的問題,作者林定皓,藍國興 這樣論述:

  本書內容重點放在與金屬處理相關議題,電路板濕製程技術是電路板製造比重相當高的部分,涉及流體機械、化學、電化學、材料、冶金學等領域。就如筆者在技術彙編總論所提,製造技術涵蓋材料、設備、工具、製程、測量方法五大區塊,每個程序都需要技術搭配性,建議讀者可參考這種觀點閱讀,較容易有系統理解到技術整合性,本書適用於電路板與電子組裝專業領域從業人員使用。 本書特色   1.電路板製造用到的多元化學品處理,都涉及大量的水溶液製程,業者習慣將這類技術統稱為「濕製程」,以方便和常用的機械性、感光性等技術區別。   2.這類技術範疇,主要針對電路板的有機與金屬材料,做表面的改質與增減

處理,利用化學品與材料的交互作用,進行操作與調整。涉及領域以介面化學、電化學、成長腐蝕等機理為主軸,是電路板製作不可或缺的重要技術領域。   3.重要內容涵蓋各類金屬粗化、電鍍、化學鍍、有機成長、表面清潔、有機與無機腐蝕等相關知識的解說與範例陳述,不論是否有完整技術基礎的讀者,都可以經由閱讀從中獲益。

應用於酸性稀釋溶液導電度量測的IDT感測系統

為了解決蝕刻液的問題,作者蕭宇良 這樣論述:

本研究為將指叉電極感測器用於量測酸性稀釋溶液的導電度,並開發了一個基於ESP32微控制器的感測系統,其感測系統包含系統電源、波型產生器電路、相位振幅檢測電路、恆流源電路,使用1.6V、1KHz的正弦波輸入至IDT感測器中,將振幅與相位電壓值通過ESP32運算出當前振幅與相位,恆流源電路提供4-20mA輸出應用於工業感測器的標準電流值,IDT感測器設計後將圖案轉印至PCB板上,之後將其封裝並且使用電鍍製程,將鎳與金鍍於銅金屬上便完成IDT感測器製作,也通過PCB廠商使用ENIG-RoHS製程將設計完成的IDT感測器大量製造。根據實驗的結果,使用不同的水(DI、RO、自來水)進行稀釋BOE和HC

l,當BOE或HCl與水稀釋比例越多,其振幅將由小變大,並呈現指數關係,指出當濃度越稀時量測中的溶液導電度就越差,在輸入訊號與感測器上訊號的相位差變化大約從-65o變化至-10o,並利用振幅與相位值計算出阻抗變化。通過變化頻率實驗,其頻率越高時感測器獲得的振幅會越小,而當感測器指數越多時其阻抗將會越低。最後將感測器置於含氟的製程廢水中量測,顯示出製作的感測系統可以辨識出純水與通入NF3氣體的溶液差異。

電路板製造與應用問題改善指南

為了解決蝕刻液的問題,作者林定皓 這樣論述:

  本書以前人解決問題的經驗編寫而成,內容涵蓋故障判讀、恰當切片、簡要製程介紹、常見缺點與解決方法解析,並針對不同技術可能發生的問題,適當編入相關議題,並盡量達到與實際作業相符,方便讀者閱讀比對,本書適用於電路板相關從業人員使用。 本書特色   1.電路板製程變化多元,隨時會有不同狀況,本書藉由前人解決問題的經驗,作為培育新進人員的基礎資料。   2.針對不同導入技術可能出現的問題,本書以適當篇幅寫入相關議題,並採用圖文方式解說,讓讀者閱讀本書時,能與實際作業狀況有契合感。   3.製程問題會涉及的因素包括:物料、設備、工具、製程及人員習慣等,本書盡可能將對策與解釋逐項

列出。   4.本書適用於電路板相關從業人員使用。

應用於串接太陽能電池之氧化銦錫與負型矽介面特性提升研究

為了解決蝕刻液的問題,作者廖偉程 這樣論述:

本研究論文探討應用於串接太陽能電池之氧化銦錫與負型矽介面特性提升研究,由於氧化銦錫與負型矽的功函數差,使得氧化銦錫與負型矽介面間存在著較高的蕭基能障,因此造成很大的串聯電阻,故本研究擬導入各種金屬於氧化銦錫與負型矽介面降低串聯電阻,導入的金屬有銦、銀、鋁與鋁 /氟化鋰堆疊層,首先,透過 Transfer Length Method (TLM)量測技術,探討各種金屬對接觸電阻的影響,金屬厚度效應亦同時探討,接著利用逆偏電容 -電壓量測及順偏電流 -電壓量測,計算各種介面的蕭基能障高度,最後將前述實驗的最佳參數導入單晶 矽太陽能電池元件,透過不同參數的調整,比較太陽能電池的各種光電特性如光電轉換

效率、開路電壓、短路電流、填充因子與串聯電阻等。實驗結果顯示,對於各種金屬導入氧化銦錫與負型矽介面,金屬鋁 /氟化鋰堆疊層與負型矽介面的結構下,其氟化鋰與金屬鋁厚度分別為 3 nm與 200 nm,負型矽片電阻為123.98  /sq,可得到最佳的接觸電阻為 9.76 × 10-4  -cm2,蕭基能障高度實驗結果顯示當導入氟化鋰與金屬鋁於氧化銦錫與負型矽介面時其蕭基能障高度降為 0.423 eV,最後將各種最佳參數導入太陽能電池的製作, 實驗結果顯示,在金屬銀 /氧化銦錫 /堆疊層與負型矽介面結構下,其光電轉換效率為 11.57 %、開路電壓為 588 mV、短路電流為 28.5 mA/

cm2、填充因子為 68.88 %及串聯電阻為 4.06  -cm2。當導入金屬銀於氧化銦錫與負型矽介面時,其光電轉換效率最佳增加至 13.26 %、開路電壓為 607 mV、短路電流為28.92 mA/cm2、填充因子為 76.12 %及串聯電阻為 2.3  -cm2。