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半導體廠活性碳流體化床吸/脫附系統排氣處理工程改善

為了解決crystal消臭石原理的問題，作者黃順詳 這樣論述：

半導體產業在製造過程必需使用大量揮發性有機化合物(VOCs)，這些VOCs因為逸散或是經由排放管道進入大氣環境中，對於生活環境或空氣品質都會造成相當大的負荷。本文報導以「活性碳雙流體化床吸/脫附系統」來處理半導體廠VOCs排氣改善工程成果，這個系統具有均勻的活性碳床層溫度，傳質高、傳熱快等優點，操作過程活性碳顆粒以流體化狀態與VOCs分子均勻接觸，再藉由吸附和脫附再生過程去除活性碳顆粒吸附的VOCs，因此，除了降低污染外，本系統還有活性碳可循環再利用的優點。本改善工程是案例廠期望在不影響產品製造下，排除先前處理系統所遭遇到的溫度、風量及堵塞三項問題。本文藉由施工改善過程的紀錄，分析各項數據所

顯示的意義及成果，同時比較改善工程施工前、後所達成的經濟效益。改善工程新增的設備提高了系統中兩組熱交換器的熱回收效能，並排除了設備塔槽內部二氧化矽結晶堵塞的問題。整體系統操作運轉所消耗電量由每小時約135 kw下降至每小時約110 Kw左右，估算改善後平均電費每日可減少約新台幣1,900元，預估一年可節省電費約新台幣六十九萬餘元。另外，也因有良好脫附再生程序，活性碳堆積密度經測量有明顯下降，達到與新碳規格相當的62 g/100 ml，這可使活性碳維持高吸附容量，確保整體系統去除VOCs效率能夠符合法規要求。

六角柱狀氧化鋅觸媒在過硫酸鹽溶液中對土黴素和諾氟沙星進行超音波催化降解之研究

為了解決crystal消臭石原理的問題，作者王培華 這樣論述：

近年來科技迅速發展，人們的文明病也日漸增多，當各種不同疾病環繞著人們時，抗生素藥物是這個世紀被人們譽為延長人類壽命的救命藥丹，而這種抗生素藥物屬於藥物和個人保健用品(pharmaceuticals and personal care products, PPCPs)的一種，與人類的日常生活息息相關，但由於人體對藥物的吸收率通常不會達到百分之百，因此多餘的藥物就會隨著人體所排放至衛生下水道或污水系統之中，當這些污染物未經妥善處理，將會對環境造成一系列的污染危害。目前針對抗生素廢水的處理大多使用高級氧化技術(Advanced oxidation processes, AOPs)為主，其中以超音波

催化技術(Ultrasonifi-cation, US)最為突出，但若單純使用超音波進行降解需要較高能量的輸出，因此必須在成本與去除污染物之間達到平衡。本研究製備出六角柱狀氧化鋅(Zinc Oxide, ZnO)，搭配過硫酸銨氧化劑(Ammonium persulfate, APs)或過硫酸鈉(Sodium persulfate, SPs)在超音波作用下，分別對諾氟沙星(Norfloxacin, NF) 及土黴素(Oxytetracycline,OTC)進行降解，為評估ZnO降解能力，另搭配複合處理技術(US/ZnO/Ps)，提升污染物降解能力。本研究製備ZnO透過FE-SEM、FEG-TEM

、EDS、UV-Vis、XRD、XPS、EPR、Zeta Potential與N2 adsorption/desorption analyzer等儀器進行材料特性分析， FE-SEM分析結果得知所製備之ZnO的形狀為六角柱狀奈米ZnO，單根奈米柱平均厚度約20至30 nm，平均長度約1 μm；FEG-TEM分析結果得知材料形成方式為先生成核心柱再包覆著多層氧化鋅外殼；EDS分析結果得知其元素組成主要由 Zn 與 O 兩種元素所組成；XRD分析結果得知晶型屬於六方纖鋅礦，並其晶型生長良好；XPS分析結果得知Zn的價態為正二價，並不含其他雜質；EPR分析結果得知ZnO在波長365 nm的汞燈照射下

，會產生羥基自由基；Zeta Potential分析結果得知材料零電位點位於pH 9.0 ± 0.3處；N2 adsorption/desorption analyzer分析結果得知ZnO的平均孔徑為19.40 nm，比表面積為6.49 m2 g-1。性能評估實驗結果得知US/ZnO/APs處理NF的最佳條件為NF濃度1 mg L-1以內，ZnO投加量為 0.5 g L-1、APs投加量為 0.1 g L-1、初始pH為 7時，總去除效率可達99.9 %；而US/ZnO/SPs處理OTC最佳條件為OTC濃度2 mg L-1以內、ZnO投加量為 0.3 g L-1、SPs投加量為 0.1 g L

-1、初始pH為 5時，總去除效率可達99.9%。透過添加抑制劑得知採用US/ZnO/Ps處理技術去除NF的主要因子為電洞提供之氧化作用，次要因子為單線氧所提供之氧化作用；另去除OTC的主要因子為羥基自由基提供之氧化作用，次要因子為電洞所提供之氧化作用。